3M™ Diamond Pad Conditioner
- 3M ID B5005035338
Erfreuen Sie sich an einer effektiven Konditionierung für metallempfindliche Prozesse. 3M™ CMP Pad Conditioner-Beschichtungen sind eine dauerhafte Schicht über dem Pad Conditioner, die dazu beitragen kann, das Auslaugen von Metallen um bis zu 75 % zu reduzieren. Die Beschichtung wird mit der leistungsstarken 3M gesinterten Schleiftechnologie kombiniert, um Mikro- und Makrokratzfehler weiter zu minimieren.
Details
Eigenschaften
- Optimiert für eine längere Lebensdauer von Pads und Scheiben
- Durch die längere Lebensdauer von Pads und Scheiben sind beim Kunden weniger Wartungsabschaltungen notwendig und potenziell geringere Wartungskosten möglich
- Für die gute Haftung der Diamanten sorgen sowohl chemische als auch mechanische Bindungen
- Höhere Korrosionsbeständigkeit durch exklusives Polymer-Substrat
- Anpassbar zur Konditionierung der Aggressivität
- Eine strenge Ebenheitsspezifikation für 3M Scheiben verbessert die Gleichmäßigkeit des Pad-Verschleißes und die Pad-Planarität
3M™ Diamond Pad Conditioner sind hochentwickelte Pad Conditioner für die chemisch-mechanische Planarisierung (CMP), die zuverlässige Leistung für kritische Halbleiter-CMP-Anwendungen liefern.
Erneuern Sie die Oberflächen der CMP-Pads mit 3M™ Diamond Pad Conditionern. Sie minimieren außerdem den Verschleiß und sorgen für gleichmäßige Unebenheiten und eine gleichbleibende Pad-Leistung – für jeden Wafer. Die 3M CMP Pad Conditioner nutzen die gesinterte Schleiftechnologie für eine hervorragende Diamantretention und eine längere Lebensdauer mit kontrollierter Diamantplatzierung und -überstand. Ihr einschichtiges Diamantgitter mit stark kontrolliertem Abstand ermöglicht Ihnen eine bessere Vorhersage und Optimierung Ihrer CMP-Pad-Nutzung für eine bessere Planarisierungseffizienz.
Spezifikationen
Dokumente
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