Der Inbegriff unseres Engagements für konsistente, langlebige, metallfreie Schnittflächen-Pad-Conditioner. Die 2023 eingeführte 3M™ Trizact™ Pad Conditioner Serie T optimiert die Oberflächentopografie für eine stärkere Pad-Aktivierung, einen deutlich geringeren Verschleiß und eine gleichbleibende Leistung über die gesamte Lebensdauer.
Die 3M™ Trizact™ Pad Conditioner Serie T bietet Präzision, Beständigkeit und Zuverlässigkeit für chemisch-mechanische Polierprozesse (CMP) in der Halbleiterfertigung. Die fortschrittliche 3M CVD-Diamantbeschichtungstechnologie bietet eine hochgradig konsistente, starke, einstellbare Pad-Aktivierung für anspruchsvolle CMP-Spezifikationen und -Prozesse, einschließlich erweiterter Knotenpunkte. Jeder Pad Conditioner verfügt über eine Mikroreplikationstechnologie, mit der die Oberflächentopografie präzise geformt wird, um eine hervorragende Leistung zu erzielen, ohne das Risiko von Mikro- und Makrokratzfehlern, wie sie bei herkömmlichen Schleifmitteln mit Diamantkörnung auftreten.
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